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      鉭靶材


      鉭旋轉(zhuǎn)靶采用真空熔煉工藝制得,尺寸及純度根據(jù)客戶要求定制。
      鉭平面靶采用真空熔煉工藝制得,尺寸及純度根據(jù)客戶要求定制。

      純度:99.95-99.99%
      應用領域:半導體鍍膜行業(yè)和光學鍍膜工業(yè)。

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