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      鉻硅合金靶材
      
		
      

				
      
			
      
				
				
				
			
      
			
      
				
        
											
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鉻硅旋轉靶采用噴涂工藝制得，可生產最大長度4000mm，厚度及比例根據客戶要求定制。
      
鉻硅平面靶由高純硅、鉻熔煉鑄造得到的中間合金，再精細破碎成粉，經過仔細的混粉，包套，抽真空，熱等靜壓得到CrSi錠坯，然后經過機械加工制得，尺寸及及比例根據客戶要求定制。 
      

      
純度：99.9-99.99%
      
應用領域：薄膜太陽能工業，低輻射玻璃工業，工具及裝飾鍍膜工業。
      

      
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