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      氧化鈮陶瓷靶材

      氧化鈮旋轉靶采用等離子噴涂工藝制得,尺寸及純度根據客戶要求定制。
      氧化鈮平面靶采用冷壓燒結工藝制得,一般綁定在銅背板上使用,尺寸及純度根據客戶要求定制。


      純度:99.99%;電阻率(20°C):≤ 0.1Ω.cm。
      應用領域:LOW-E鍍膜玻璃,薄膜太陽能電池,TFT-LCD,半導體電子,光學鍍膜,裝飾鍍膜。


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